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碳化鉭TaC涂層
所屬分類：
半導體應用
概要：
碳化鉭涂層是用青島高泰專有的化學氣相沉積(CVD)工藝，在高純度石墨基底表面氣相沉積碳化鉭 (TaC)制備而成。
- 產品描述
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- 商品名稱: 碳化鉭TaC涂層
碳化鉭涂層是用青島高泰專有的化學氣相沉積(CVD)工藝，在高純度石墨基底表面氣相沉積碳化鉭 (TaC)制備而成。
介紹
碳化鉭涂層是用青島高泰專有的化學氣相沉積(CVD)工藝，在高純度石墨基底表面氣相沉積碳化鉭 (TaC)制備而成。
優勢
● 卓越的耐熱性
● 防止石墨基底顆粒分離、氣體及雜質釋放
● 出色的抗腐蝕性
應用
● 碳化硅(SiC)單晶生長部件
● 碳化硅外延生長部件
● MOCVD 部件
● 高溫部件
性能
項目
單位
數值
厚度
μm
30~50 (可定制)
密度
Mg/m3
14.5
熔點
℃
3985
硬度
HK
1550
電阻率
μΩ?m
0.15
熱導率
W/m?K
9-22
熱膨脹系數
10-6/K
7.1
*因目前全面檢測涂層的方式有限，上述部分數據源于以下文獻，而非保證值
關鍵詞：
碳化鉭TaC涂層
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